多做题，通过考试没问题！
半导体芯片制造工
睦霖题库
>
通信电子计算机技能考试
>
半导体芯片制造工
解释水的去离子化。在什么电阻率级别下水被认为已经去离子化？
正确答案:
用以制造去离子水的去离子化过程是指，用特制的离子交换树脂去除电活性盐类的离子。18MΩ-cm电阻率级别下水被认为已经去离子化。
答案解析:
有
进入题库查看解析
微信扫一扫手机做题
最新试题
·
晶体的特点是在各不同晶向上的物理性能、机
·
例出典型的硅片湿法清洗顺序。
·
单相3线插座接线有严格规定（）
·
人们规定：（）电压为安全电压.
·
什么是掺杂？例举四种常用的掺杂杂质并说明
·
例举并描出旋转涂胶的4个基本步骤。
·
位错的形成原因是（）。
·
一片硅片由0.3um厚的SiO
·
粘封工艺中，常用的材料有哪几类？
·
例举并描述薄膜生长的三个阶段。
热门试题
·
常用胶粘剂有热固性树脂、热塑性树脂和橡胶
·
例举高k介质和低k介质在集成电路工艺中的
·
例举离子注入工艺和扩散工艺相比的优点和缺
·
描述化学机械平坦化工艺。
·
半导体材料可根据其性能、晶体结构、结晶程
·
砷化镓相对于硅的优点是什么？
·
光刻工艺是利用感光胶感光后抗腐蚀的特性在
·
什么是离子分布的偏斜度和峭度，和标准高斯
·
STI隔离技术中，为什么采用干法离子刻蚀
·
双极晶体管中只有一种载流子（电子或空穴）
