简述化学气相沉积法的五个基本步骤
正确答案:
A.反应物已扩散通过界面边界层；
B.反应物吸附在基片的表面；
C.化学沉积反应发生；
D. 部分生成物已扩散通过界面边界层；
E.生成物与反应物进入主气流里，并离开系统。
CVD反应是由这五个主要步骤所构成的。因为进行这五个的发生顺序成串联，因此CVD反应的速率取决于步骤，将由这五个步骤里面最慢的一个来决定。
B.反应物吸附在基片的表面；
C.化学沉积反应发生；
D. 部分生成物已扩散通过界面边界层；
E.生成物与反应物进入主气流里，并离开系统。
CVD反应是由这五个主要步骤所构成的。因为进行这五个的发生顺序成串联，因此CVD反应的速率取决于步骤，将由这五个步骤里面最慢的一个来决定。
答案解析:有
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