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能源科学技术
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能源科学技术
通常由单晶棒所切割的硅片表面可能污染的杂质主要有()
A、油脂,松香,蜡
B、有机溶剂,浓酸,强酸
C、硝酸,氢氟酸
D、盐,水
正确答案:
A
答案解析:
有
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