多做题，通过考试没问题！

知识产权法

睦霖题库>大学试题(法学)>知识产权法

关于布图设计权产生的形式条件，通常包括（）。

  • A、该布图设计必须投入商业实施
  • B、受保护的布图设计必须固化到集成电路芯片中
  • C、布图设计应具有独创性
  • D、受保护的布图设计必须办理登记手续
正确答案:A,B,D
答案解析:有
进入题库查看解析

微信扫一扫手机做题

最新试题
热门试题