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集成电路制造工艺员

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下列关于曝光后烘烤的说法正确的是()。

  • A、烘烤的目的是除去光刻胶中的水分
  • B、烘烤可以减轻曝光中的驻波效应
  • C、烘烤的温度一般在300℃左右
  • D、烘烤的时间越长越好
正确答案:B
答案解析:
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