多做题，通过考试没问题！

集成电路制造工艺员

睦霖题库>通信电子计算机技能考试>集成电路制造工艺员

由于干法刻蚀中是同时对晶片上的光刻胶及裸露出来的薄膜进行刻蚀的，所以其（）就比以化学反应的方式进行刻蚀的湿法还来得差。

  • A、刻蚀速率
  • B、选择性
  • C、各向同性
  • D、各向异性
正确答案:B
答案解析:有
进入题库查看解析

微信扫一扫手机做题

最新试题
热门试题