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集成电路制造工艺员

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薄膜沉积的机构，依发生的顺序，可以分为这几个步骤。其中不包括（）。

  • A、形成晶核
  • B、晶粒自旋
  • C、晶粒凝结
  • D、缝道填补
正确答案:B
答案解析:有
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