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集成电路制造工艺员

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哪种方法可以增加缺陷的积累率而降低临界注入量：（）。

  • A、低温注入
  • B、常温注入
  • C、高温注入
  • D、分子注入
  • E、双注入
正确答案:A,D,E
答案解析:有
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