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集成电路制造工艺员

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超大规模集成电路需要光刻工艺具备的要求有（）。

  • A、高分辨率
  • B、高灵敏度
  • C、精密的套刻对准
  • D、大尺寸
  • E、低缺陷
正确答案:A,B,C,D,E
答案解析:有
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