多做题，通过考试没问题！
集成电路制造工艺员
睦霖题库
>
通信电子计算机技能考试
>
集成电路制造工艺员
早期，研究离子注入技术是用（）来进行的。
A、重离子加速器
B、热扩散炉
C、质子分析仪
D、轻离子分析器
正确答案:
A
答案解析:
有
进入题库查看解析
微信扫一扫手机做题
最新试题
·
请说明表面安装元件上文字的含义及元件名称
·
化合物半导体砷化镓常用的施主杂质是（）。
·
电离气体与普通气体的不同之处在于：后者是
·
危害半导体工艺的典型金属杂质是（）。
·
光刻胶主要由（）等不同材料混合而成的。
·
在刻蚀（）过程中假如我们在CF
·
下列哪些元素在硅中是快扩散元素：（）。
·
调试和维修电路时排除故障的一般程序和方法
·
什么是焊膏？焊接工艺对焊膏提出哪些技术要
·
（）就是用功率密度很高的激光束照射半导体
热门试题
·
一般来说，我们用一定量的（）使阳树脂再生
·
电子束蒸发的设备中产生电子束的装置称为（
·
菲克一维扩散定律公式中的J是代表单位面积
·
在深紫外曝光中，需要使用CA光刻胶，CA
·
元器件插装时，应该注意哪些原则（提示：至
·
一般用（）测量注入的剂量。
·
（）主要是以化学反应方式来进行薄膜沉积的
·
thermal conductivity
·
在半导体制造中，熔断丝可以应用在（）。
·
电子产品的构成是怎样的？
