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集成电路制造工艺员

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离子注入的主要气体源中,易燃、易爆的有()。

  • A、砷化氢
  • B、二硼化氢
  • C、三氟化硼
  • D、硅烷
  • E、氧气
正确答案:A,B,D
答案解析:
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