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集成电路制造工艺员

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离子注入的主要气体源中，剧毒的有（）。

  • A、砷化氢
  • B、二硼化氢
  • C、四氟化硅
  • D、三氟化磷
  • E、五氟化磷
正确答案:A,B,C,D
答案解析:有
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