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集成电路制造工艺员

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为了解决中性束对注入均匀性的影响，可在系统中设有（），使离子束偏转后再达到靶室。

  • A、磁分析器
  • B、正交电磁场分析器
  • C、静电偏转电极
  • D、束流分析仪
正确答案:C
答案解析:有
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